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北京某研究院采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 濺射沉積制備碳薄膜, 同時(shí)在室溫和無(wú)催化層襯底的條件下, 探究離子束能量和沉積時(shí)間對(duì)碳納米薄膜成膜的影響.

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):

* 可選: 燈絲中和器; 可變長(zhǎng)度的增量

該濺射沉積是在氣壓為 1.33?10-4Pa 和襯底溫度為室溫條件下,利用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 濺射石墨, 在無(wú)催化層的硅(Si)襯底上加工碳納米薄膜.

通過(guò)拉曼光譜對(duì)碳納米薄膜表面物質(zhì)的組成進(jìn)行了分析; 利用掃描電鏡(SEM)和原子力顯微鏡(AFM)來(lái)顯示薄膜的表面結(jié)構(gòu); 實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示, 輻照時(shí)間對(duì) ID/IG 的比值以及碳晶粒的大小都有顯著的影響, 并且高離子束能量能夠促進(jìn)碳晶粒的結(jié)晶. 同時(shí), 在高能量的離子束下沉積碳納米薄膜, 在 Si 表面發(fā)現(xiàn)了特殊圖案的碳納米結(jié)構(gòu): 雪花狀, 方塊狀及四角星狀.

KRI 離子源的獨(dú)特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能, 增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的.

因此，該研究項(xiàng)目才采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射沉積工藝.

伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵,  檢漏儀,  質(zhì)譜儀,  真空計(jì),  美國(guó) KRI 考夫曼離子源,  美國(guó)HVA 真空閥門,  美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī),  美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

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