供應(yīng)

VO2 薄膜作為一種熱門的功能材料, 具有優(yōu)秀的相變特性和電阻開關(guān)特性, 在微測輻射熱計、光存儲器等光學器件領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景.

天津某材料制造商采用伯東 KRI 射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射沉積制備 VO2 薄膜, 以獲得均勻性好, 沾污少, 附著力強, 較高的透過率的 VO2 薄膜.

KRI 射頻離子源 RFICP380 技術(shù)參數(shù):

客戶采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP380 產(chǎn)生離子束不斷轟擊源極靶材和工件, 工件在離子束轟擊下迅速被加熱至高溫, 源極靶材在轟擊作用下濺射出的合金元素不斷奔向工件表面, 經(jīng)沉積擴散過程形成一定厚度的涂層.

KRI 射頻離子源 RFICP380 運行結(jié)果:

1. 獲得的薄膜在可見光波段具有較高的透過率

2. 薄膜較為平整且對可見光的透過率較高為38%, 退火處理提高了薄膜的結(jié)晶性和透過率

3. 制備出單斜結(jié)構(gòu)的VO2薄膜, 且具有晶面擇優(yōu)取向

4. 制備的薄膜均勻性好, 沾污少, 附著力強, 沉積速率大, 效率高, 產(chǎn)量高

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式:

上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
T: 86-21-5046-1322                   T: 886-3-567-9508 ext 161
F: 86-21-5046-1490                        F: 886-3-567-0049
M: 86 152-0195-1076                     M: 886-939-653-958
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

伯東版權(quán)所有, 翻拷必究!