供應(yīng)

某大型工業(yè)薄膜制造商采用伯東 KRI 無(wú)柵霍爾離子源 eH 3000 輔助熱蒸發(fā)技術(shù)鍍制高質(zhì)量光學(xué)薄膜, 以獲得良好的機(jī)械性能和光學(xué)特性的薄膜, 同時(shí)獲得與基體牢固結(jié)合和優(yōu)良性能的高質(zhì)量薄膜.

其工作系統(tǒng)如下圖：

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000最適合大型真空系統(tǒng), 與友廠大功率離子源對(duì)比, eH 3000 是目前市場(chǎng)上最高效, 提供最高離子束流的離子源.

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術(shù)參數(shù):

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

該制造商的離子源輔助鍍膜系統(tǒng)由霍爾離子源, 電源及控制系統(tǒng)和質(zhì)量流量計(jì) 3 部分組成, 如下圖：

其中霍爾離子源發(fā)射離子, 質(zhì)量流量計(jì)向離子源提供氣體并保證氣流穩(wěn)定, 電源及控制系統(tǒng)向離子源供電并保證放電參數(shù)放電電壓及電流穩(wěn)定.

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 運(yùn)行結(jié)果：

1. 適用工業(yè)規(guī)模生產(chǎn)

2. 獲得良好的機(jī)械性能和光學(xué)特性的薄膜

3. 獲得與基體牢固結(jié)合和優(yōu)良性能的高質(zhì)量薄膜

伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

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