供應(yīng)

沒(méi)有真空, 就不可能有可再生能源. 例如光伏發(fā)電 PV, 這是一種廣為人知的發(fā)電方法, 即利用太陽(yáng)能電池, 通過(guò)光伏效應(yīng), 將來(lái)自太陽(yáng)的能量轉(zhuǎn)換為電子流, 從而產(chǎn)生電能.
太陽(yáng)能電池技術(shù)有多種類(lèi)型, 主要技術(shù)之一是基于薄膜沉積. 該技術(shù)的主要優(yōu)勢(shì)是太陽(yáng)能電池生產(chǎn)中的材料消耗低. 除諸如碲化鎘 CdTe 之類(lèi)材料外, 銅銦鎵硒化物 CIGS 也經(jīng)常用于吸收層. 這些層可以沉積在玻璃等非柔性基板上, 或者金屬帶材或箔片等柔性基板上, 又或柔性薄玻璃上, 然后須將基板裝入一個(gè)大型真空室內(nèi). 在該真空腔室內(nèi)會(huì)進(jìn)行多種 PVD 工藝, 例如濺射或蒸發(fā), 以生成多層太陽(yáng)能電池. 取決于不同工藝, 為了沉積這些層, 需要 10-3 至 10-6 hPa 范圍內(nèi)的真空. 由于表面積較大, 高抽速是必不可少的并且真空需要潔凈無(wú)碳, 以確保高品質(zhì)涂層.
薄膜沉積真空系統(tǒng)應(yīng)用要求
維護(hù)間隔長(zhǎng), 正常運(yùn)行時(shí)間延長(zhǎng)
無(wú)碳真空
高抽速, 快速抽空
上海伯東推薦德國(guó) Pfeiffer 真空泵典型配置

濺射或蒸發(fā)工藝要求
滿足多層膜的制備
維護(hù)間隔長(zhǎng)
膜層致密, 不易脫落
通過(guò)使用上海伯東美國(guó) KRi 離子源可實(shí)現(xiàn)基板清潔和加速鍍膜材料的濺射速度, 并且離子源在材料沉積過(guò)程中可幫助沉積并使沉積后的薄膜更為致密, 膜基附著力更好,  膜層不易脫落. 其中 RF 射頻離子源提供高能量, 低濃度的離子束, 離子源單次工藝時(shí)間更長(zhǎng), 適合多層膜的制備和離子濺鍍鍍膜工藝. 上海伯東是美國(guó) KRi 離子源中國(guó)總代理.

上海伯東美國(guó) KRi 射頻離子源 RFICP 參數(shù):

薄膜沉積應(yīng)用于眾多零部件產(chǎn)品的生產(chǎn), 例如眼鏡, 手機(jī), 屏幕顯示器等. 一般通過(guò)物理氣相沉積 PVD 或化學(xué)氣相沉積 CVD 實(shí)現(xiàn). 薄膜直接施加到零部件表面上, 總厚度小于 10 ?m. 薄膜沉積需要在真空環(huán)境下進(jìn)行. 上海伯東提供德國(guó) Pfeiffer 真空產(chǎn)品和美國(guó) KRi 考夫曼離子源助力薄膜沉積工藝發(fā)展.

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