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    KRI 離子源應(yīng)用于舞臺(tái)燈光濾光片鍍膜

    價(jià)格:面議瀏覽:209次聯(lián)系:張婷婷 / 15021001340 / 0755-25473928企業(yè):伯東貿(mào)易(深圳)有限公司留言店鋪收藏

      舞臺(tái)燈光雖然呈現(xiàn)是五顏六色的, 但光源一般都是白色. 通過在光源前加上特定的光學(xué)濾光片, 對(duì)光進(jìn)行“加工”, 反射和透過特定的波段, 來達(dá)到不同的色彩變化. 加上顏色濾光片, 讓不同顏色的鏡片不停切換, 產(chǎn)生不同顏色. 而在光學(xué)元件或獨(dú)立基板上, 鍍上或涂布一層或多層介電質(zhì)膜或金屬膜或這兩類膜的組合, 即光學(xué)薄膜, 可以改變光波之傳遞特性, 包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變.

        上海伯東某客戶為舞臺(tái)燈光設(shè)備生產(chǎn)商, 經(jīng)過伯東推薦選用國(guó)產(chǎn)鍍膜機(jī)加裝美國(guó)進(jìn)口 KRi 射頻離子源進(jìn)行輔助鍍膜, 保證工藝效果, 提高生產(chǎn)效率.

     

    KRi 射頻離子源應(yīng)用于舞臺(tái)燈光濾光片鍍膜

     

    客戶之前使用其他國(guó)產(chǎn)機(jī)臺(tái)鍍制, 蒙霧且溫漂大, 達(dá)不到客戶要求.

     

     

    上海伯東美國(guó)進(jìn)口KRI離子源輔助國(guó)產(chǎn)鍍膜設(shè)備鍍制舞臺(tái)燈光濾光片, 透亮且溫漂小, 滿足客戶降低生產(chǎn)成本、提高產(chǎn)品質(zhì)量的需求, 為國(guó)內(nèi)鍍膜廠家進(jìn)行工藝升級(jí)提供新方向!

     

    上海伯東美國(guó) KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長(zhǎng)!  射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等. 上海伯東是美國(guó) KRi 離子源中國(guó)總代理.

     

     

    美國(guó) KRi RFICP 射頻離子源技術(shù)參數(shù):

    型號(hào)

    RFICP 40

    RFICP 100

    RFICP 140

    RFICP 220

    RFICP 380

    Discharge 陽極

    RF 射頻

    RF 射頻

    RF 射頻

    RF 射頻

    RF 射頻

    離子束流

    >100 mA

    >350 mA

    >600 mA

    >800 mA

    >1500 mA

    離子動(dòng)能

    100-1200 V

    100-1200 V

    100-1200 V

    100-1200 V

    100-1200 V

    柵極直徑

    4 cm Φ

    10 cm Φ

    14 cm Φ

    20 cm Φ

    30 cm Φ

    離子束

    聚焦, 平行, 散射

     

    流量

    3-10 sccm

    5-30 sccm

    5-30 sccm

    10-40 sccm

    15-50 sccm

    通氣

    Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

    典型壓力

    < 0.5m Torr

    < 0.5m Torr

    < 0.5m Torr

    < 0.5m Torr

    < 0.5m Torr

    長(zhǎng)度

    12.7 cm

    23.5 cm

    24.6 cm

    30 cm

    39 cm

    直徑

    13.5 cm

    19.1 cm

    24.6 cm

    41 cm

    59 cm

    中和器

    LFN 2000

     

     

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    美國(guó) KRI 射頻離子源 RFICP 100 (hakuto-china.cn)

    美國(guó) KRI 射頻離子源 RFICP 40 (hakuto-china.cn)

     

    上海伯東同時(shí)提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
    1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域.
     

    上海伯東是美國(guó)Gel-pak 芯片包裝盒, 日本 NS 離子蝕刻機(jī), 德國(guó) Pfeiffer  真空設(shè)備, 美國(guó)  KRI 考夫曼離子源, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 比利時(shí)原裝進(jìn)口 Europlasma 等離子表面處理機(jī) 和美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備等進(jìn)口知名品牌的指定代理商 .我們真誠(chéng)期待與您的合作!

     

    若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式:
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