供應(yīng)

無論是何種膜系結(jié)構(gòu), 玻璃基片表面的清潔程度和表面狀態(tài)將直接影響所鍍膜層的質(zhì)量, 如薄膜的附著力/ 粗糙度以及薄膜的物理性能與機(jī)械強(qiáng)度.

 

但在放置和傳輸過程中會(huì)對(duì)玻璃基片表面難以避免地出現(xiàn)不明污染物, 失去 "新鮮表面" 形成鈍化層, 甚至可視痕跡.  對(duì)于低輻射玻璃而言, 在瑕疵處生長(zhǎng)的銀膜會(huì)在后續(xù)鋼化及熱彎過程中形成團(tuán)聚, 導(dǎo)致透光性能與低輻射性能嚴(yán)重惡化, 鍍膜產(chǎn)品報(bào)廢,降低成品率.

 

因此, 國內(nèi)某玻璃制造商采用伯東 KRI 考夫曼霍爾離子源 eH 3000 在玻璃基片傳輸后/ 鍍膜前進(jìn)行在線基片表面處理工序.

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術(shù)參數(shù):

離子源型號(hào)	霍爾離子源 eH3000
Cathode/Neutralizer	HC
電壓	50-250V
電流	20A
散射角度	>45
可充氣體	Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others
氣體流量	5-100sccm
高度	6.0“
直徑	9.7“
水冷	可選

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

 

該制造商采用 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000離子源解離 Ar 氣體,轟擊玻璃表面,對(duì)玻璃基片表面進(jìn)行清洗和刻蝕.

 

推薦理由：

設(shè)備穩(wěn)定,抗污染能力強(qiáng),可以進(jìn)行基片表面清洗與輔助沉積, KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 對(duì)玻璃基片表面有效去除二次污染/ 增加基片表面能/ 控制基片表面粗糙度.

 

運(yùn)行結(jié)果:

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000能有效去除二次污染,對(duì)玻璃基片有效清洗清洗和刻蝕, 獲得更清潔/ 平滑的玻璃基片表面提高了所鍍膜層的質(zhì)量,提高薄膜的附著力, 改善薄膜粗糙度以及薄膜的物理性能與機(jī)械強(qiáng)度降低了鍍膜產(chǎn)品報(bào)廢,提高了成品率 伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

 

 

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