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隨著半導(dǎo)體大廠先進(jìn)制程芯片競爭日益升溫，EUV光刻機(jī)成為市場“香餑餑”，引發(fā)業(yè)界關(guān)注。

目前，英特爾率先拿到了ASML High-NA EUV光刻機(jī)設(shè)備，并于近期宣布該臺光刻機(jī)完成組裝。

三星也不甘示弱，表示將與ASML EUV光刻機(jī)組件供應(yīng)商蔡司聯(lián)手，在EUV領(lǐng)域深化合作。

與此同時，ASML第二臺High-NA EUV光刻機(jī)也傳出交付的消息，但買家成謎。

三星與蔡司聯(lián)手，深化EUV合作

韓媒報道，三星電子的執(zhí)行董事長李在镕(Jay Y. Lee)近期在德國會見了蔡司總裁兼首席執(zhí)行官卡爾?蘭普雷希特(Karl Lamprecht)及其他公司高管。

會議上，雙方同意擴(kuò)大在EUV技術(shù)和尖端半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)方面的合作，

以增強(qiáng)兩家公司在晶圓代工代工和存儲芯片領(lǐng)域的業(yè)務(wù)競爭力。

通過這次合作，三星希望提升下一代半導(dǎo)體技術(shù)，優(yōu)化芯片制造流程，提高先進(jìn)芯片的生產(chǎn)良率。

蔡司還計劃到2026年投資480億韓元在韓國建設(shè)研發(fā)中心，加強(qiáng)同三星等韓企的戰(zhàn)略合作。

資料顯示，蔡司是光學(xué)與光電解決方案開發(fā)商，也是光刻機(jī)大廠ASML EUV光刻機(jī)獨(dú)家供應(yīng)商，

每臺EUV光刻機(jī)中包含了三萬多個由蔡司提供的組件。

蔡司在EUV技術(shù)方面擁有超過2000項(xiàng)核心專利，其掌握的技術(shù)可以在高性能先進(jìn)芯片生產(chǎn)中發(fā)揮重要作用。

未來，三星電子和蔡司將進(jìn)一步擴(kuò)大雙方在EUV技術(shù)和先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備相關(guān)領(lǐng)域的合作。

ASML第二臺High NA EUV光刻機(jī)已交付?

近期，英特爾表示完成ASML High NA EUV光刻機(jī)的安裝，已進(jìn)入光學(xué)系統(tǒng)校準(zhǔn)階段。

這是ASML生產(chǎn)的首臺High NA EUV光刻機(jī)，價值高達(dá)3.5億歐元，英特爾計劃用該款設(shè)備生產(chǎn)1.8nm以下的先進(jìn)制程芯片。

媒體報道，除了英特爾以外，臺積電、三星、美光等廠商也向ASML訂購了High NA EUV光刻機(jī)。

ASML財報中透露，今年第一季度公司新增訂單金額為36億歐元，其中6.56億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。

近期ASML對外交付了第二臺High NA EUV光刻機(jī)，但未透露買家信息。

目前兩臺High NA EUV光刻機(jī)并無法滿足市場對先進(jìn)制程芯片的需求，未來ASML還計劃生產(chǎn)更多高端光刻機(jī)設(shè)備。