最新供應(yīng)共577條信息
伯東KRI射頻離子源 RFICP 380 持續(xù)轟擊 TiN 薄膜獲得更優(yōu)秀性能2023-03-22
伯東 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 輔助鍍制 HfO2 薄膜2023-03-22
KRI 聚焦射頻離子源 RFICP 220 輔助磁控濺射鍍制 3D 玻璃膜2023-03-22
KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 輔助離子束濺射鍍制 SiO_2薄膜2023-03-22
伯東 KRI 雙離子源輔助離子束濺射技術(shù)獲取高反射吸收Ta2O5薄膜2023-03-15
KRI 離子源用于離子束濺射鍍制 Ge 納米薄膜的研究2023-03-15
KRI 射頻離子源 RFICP 380 和 分子泵組用于濺射沉積 Cu 薄膜2023-03-15
伯東 KRI 聚焦型射頻離子源輔助磁控濺射沉積氧化銦錫 ITO 薄膜2023-03-15
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 220用于 ZAO 透明導(dǎo)電薄膜及性能研究2023-03-15
伯東 KRI 考夫曼霍爾離子源 eh 3000 用于清洗PPS/ PEEK襯底面2023-03-15
KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380用于制備超薄 TEM 樣品2023-03-15
KRI 射頻離子源用于碳化硅微納結(jié)構(gòu)表面刻蝕2023-03-15
KRI 考夫曼離子源 KDC 100 輔助鍍制五金連接件鉻膜2023-03-15
KRI 聚焦型射頻離子源用于制備類金剛石薄膜2023-03-15
伯東 KRI 離子源用于大口徑光學(xué)元件 KDP 晶體的濺射與刻蝕2023-03-15
伯東 KRI 無(wú)柵霍爾離子源 eH 3000 輔助鍍制高質(zhì)量光學(xué)薄膜2023-03-07
伯東 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 輔助沉積高鋁超硬涂層增強(qiáng)切削性能2023-03-07
伯東 KRI 考夫曼射頻離子源用于純鈦表面氨基化改性的研究2023-03-07
伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP 220 用于鐘表行業(yè)鍍制納米薄膜2023-03-07
伯東 KRI 考夫曼射頻離子源在 PCB 鉆頭銑刀上的應(yīng)用2023-03-07
伯東 KRI 考夫曼霍爾離子源 eH 3000用于玻璃基片清洗2023-03-07
伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP 140 用于鍍制 TiN 薄膜2023-03-07
考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 輔助 DC/DC 混合電路生產(chǎn)2023-03-07
伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 在磁控濺射玻璃鍍膜中的應(yīng)用2023-03-07
伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 輔助 LED 封裝2023-03-07
伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 輔助鍍制 OSR 膜層2023-03-07
伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 用于修正高精度 CGH 基底2023-03-07
伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 用于清洗繼電器2023-03-01
伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助濺射沉積制備鋰硫電池正極片2023-03-01
伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP 380 輔助濺射鍍制 Al2O3薄膜2023-03-01
KRI 考夫曼聚焦射頻離子源 RFCIP220輔助濺射制備 GdF3光學(xué)薄膜2023-03-01
KRI RFICP325 離子源已成功應(yīng)用在塑料光學(xué)鏡頭應(yīng)用2023-03-01
KRI 考夫曼聚焦射頻離子源 RFICP380 輔助制備原子探針樣品2023-03-01
KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射制備 LaF3 薄膜2023-03-01
KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP380 濺射鍍制 TC4 表面 TiN 涂層2023-03-01
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 濺射制備 MnGe 量子點(diǎn)2023-03-01
KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 制備高性能光通信帶通濾光膜2023-03-01
伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 濺射制備 VO2 薄膜2023-03-01
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 應(yīng)用于 AlTiN 涂層研究2023-03-01
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射制備堵片傳感器薄膜2023-02-22
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 濺射制備類金剛石 Ta-C 涂層2023-02-22
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射沉積 Cu-W 膜2023-02-22
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 用于鋁表面濺射沉積 ZrN 薄膜2023-02-22
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 用于濺射沉積硅片金屬薄膜2023-02-22
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 成功用于復(fù)合磁控濺射沉積裝置2023-02-22
KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 濺射沉積紅外器件介質(zhì)膜2023-02-22
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 濺射沉積 NSN70 隔熱膜2023-02-22
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積制備碳薄膜2023-02-22
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 濺射沉積 BCx 薄膜2023-02-22
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 鍍制氣體傳感器 WO3 薄膜2023-02-22